关键词：光叶山楂 再生体系 培养基 植物生长调节剂 

摘要：[目的]建立光叶山楂高效再生体系。[方法]以光叶山楂茎尖为外植体,通过植物生长调节剂和培养基配比,建立光叶山楂高效再生体系。[结果]光叶山楂初代培养最适宜的培养基配方为1/4MS＋BA 0.1 mg/L;愈伤组织形成最适培养基配方为1/2MS＋NAA0.1 mg/L＋CPPU 0.01 mg/L;继代培养最适宜的培养基配方为MS＋BA1.0 mg/L和MS＋BA1.5 mg/L＋IAA0.1 mg/L;生根培养最适培养基为1/4MS＋IAA1.0 mg/L;100 mg/L BA浸蘸嫩茎基部30 min,外植体的生根效果最好。[结论]该研究可为光叶山楂的开发利用提供参考。

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