关键词：三维形貌 微结构 干涉检测 显微镜 

摘要：三维微结构在光陷阱、隐身与光场调控、超高压密封、人工生物材料等领域具有重要的应用价值。三维微结构的加工制造方法,包括激光直写、光刻、电子与化学蚀刻等先进制造方法发展迅速,其检测仪器有扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、激光共焦显微镜、低相干干涉显微镜,但这些检测仪器一直受到西方发达国家垄断。阐述国内在低相干干涉显微测量方法方面的研究进展,包括干涉显微镜的光学设计方法、装校流程、宽谱低相干干涉图处理与微结构形貌复原方法,并给出了不确定度评定结果。结果表明:仪器三维形貌合成不确定度为0.9 nm,最大微结构轴向分辨率为0.13 nm。

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