关键词：信息化发展 平面显示技术 半导体制造 软件工程 窗 

摘要：我国提出信息化发展九大战略重点；沪将举办世界软件工程大会；宁波将办全球平面显示技术与市场峰会；半导体制造开始65nm竞走；

电子工艺技术杂志要求:

{1}摘要及关键词：文中必须附中文摘要，内容包括目的、方法、结果(应给出主要数据)及结论4个部分内容，要求以第3人称撰写200-300字为宜，并附3-8个关键词。有条件者，可将文题、作者、单位、摘要及关键词译成英文。

{2}来稿力求做到富有思想性，观点新颖、概念准确、论证严谨、逻辑清晰、资料翔实、格式规范、文字精炼。

{3}注明所有作者的姓名，工作单位名称、所在城市和邮政编码(中、英文)，并注明第一作者的出生年、性别、籍贯(具体到城市或县)、最高学历、职称、职务、主要研究方向、电子邮箱、详细通信地址和联系电话。

{4}文稿要求:内容真实，论点明确，论据充分，重点突出。说理透彻，文字精练，具有实用性、真实性、科学性和逻辑性。

{5}引用报刊资料，请注明作者姓名、文章标题、刊名、刊期 ；引用书籍资料，请注明作者姓名、书名、出版社、出版时间和页码 ；引用互联网资料，请注明作者姓名、文献名、网址和时间。正文中出现的外文请译成中文并加上括号附在外文后。

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