电子工业专用设备杂志

正确的策略选择是中国半导体设备制造业发展的关键

关键词: 中国  半导体设备制造业  策略选择  现状  芯片制造业  发展策略  

相比于中国的芯片制造业，半导体设备制造业无论从规模、研发水平、投资强度以及人材聚集等都相形见拙。据权威人士介绍，其基本状况为：与国外先进水平相差5个技术挡次，年销售额为3亿人民币，国内市场占有率小于5％，行业的主要单位有20家，能提供Ф150mm以下各类设备，少数为Ф200mm。

光学光刻的极限

关键词: 光学光刻  分辨力增强技术  浸没式透镜  偶极照明双重曝光  分辨力极限  

讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限.

浸没式光刻的优势和可行性

关键词: 193nm光刻  浸没透镜曝光  折射率  数值孔径  

浸没式光刻通过高折射率的液体充入透镜底部和片子之间的空间使光学系统的数值孔径具有显著的优势.在193 nm曝光系统中,水(折射率为1.44)被选作最佳的浸入液体.通过成像模拟,现已证明ArF(193nm)浸没式光刻(M=1.05～1.23)与F2(157 nm)干法(NA=0.85～0.93)光刻具有几乎相同的成像性能.结合流体力学和热模拟结果,讨论了ArF浸没式曝光设备的优势和可...

用于光刻成像技术中的双腔准分子光源

关键词: 双腔技术的准分子光源  深紫外线  波长  数值孔径  

MOPA(Master Oscillator&Power Amplifier)是采用双腔技术的准分子光源,它的成功量产将向光刻工厂提供前所未有的光谱带宽性能和输出功率,并大大降低成本,而且还适用于所有DUV曝光波长.

一种可实用的照明曝光系统

关键词: 照明均匀性  单位面积能量  光学均匀器  

以作者多年的工作体会为基础,结合几种照明曝光系统的情况,介绍了提高光刻机的照明均匀性和单位面积能量的一些具体措施.并以光学均匀器为例,做出一种可实用的照明曝光系统.

光刻机超精密工件台研究

关键词: 光刻机  超精密  工件台  气浮导轨  运动控制  纳米  

针对步进扫描投影型光刻机超精密工件台开展研究,所搭建的超精密气浮运动试验台采用气浮直线导轨支撑、直线电机驱动、直线光栅尺反馈组成大行程直线运动系统,其上叠加洛仑兹电机驱动的气浮微动台,提供对直线电机运动的精度补偿,由双频激光干涉仪提供粗、精动运动系统的超精密位置检测和反馈,两套直线运动系统可研究同步扫描运动,并可灵活地组成...

先进ATHENA^TM选用策略与对准功能

关键词: 对准系统  多组光栅标  化学机械抛光  晶圆对位  

基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要.不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响.介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套和对准标的设计.

光学参数配置对ArF光刻性能影响研究

关键词: 光刻  仿真  arf光刻机  光学系统  

针对分辨力100 nm的ArF光刻机,在环形照明和四极照明下,对4种曝光图形结构光刻性能进行了仿真研究.仿真结果表明,如果光刻物镜在加工装调后的光波像差为6 nm,杂散光为2%,工件台运动标准偏差为8 nm,曝光量控制在10%,△CD≤±10%CD,利用四级照明,可以在较大的焦深范围内(DOF≥0.4～0.5 μm)实现满足器件要求的100 nm密集线条、半密集线条的光刻成像....

争做中国IC装备制造业的先导者——访沈阳芯源先进半导体技术有限公司总经理宗润福先生

关键词: 中国  ic装备制造业  沈阳芯源先进半导体技术有限公司  宗润福  半导体产业  市场营销  

近年来，随着中国信息产业的飞速发展，半导体产业也取得了长足的进步，但由于各种原因，支撑我国IC产业发展的装备制造业却严重落后，这在一定程度上大大制约了我国IC产业的发展，因此，发展我国IC装备制造业已成为当务之急，值此之际，我刊专访了中国IC装备制造业的先导企

芯片制造设备供应商能否满足芯片的市场需求

关键词: 芯片制造设备供应商  市场需求  生产能力  应用材料公司  生产成本  

今年，一股海啸正向芯片制造设备供应商们扑面而来。随着芯片需求急剧提升，企业收益将提升70％，让人怀疑的倒是他们的生产能力能否满足订单需求。

先进的技术、高品质的服务是企业发展的关键——访西盟半导体设备（上海）有限公司于镇南先生

关键词: 西盟半导体设备有限公司  于镇南  光源设备  光刻制程  产品创新  

西盟半导体设备(上海)有限公司是去年在中国成立的，请您介绍一下西盟半导体设备有限公司及主要产品。

市场动态

关键词: 半导体工业  亚太地区  纳米技术  芯片业  市场  scan50400芯片  

国内要闻

关键词: 中国  半导体工业  电子封装技术  dlp电视  芯片修正工艺  

国际要闻

关键词: 电子工业  闪存  半导体  索尼公司  

先进的测试平台简化多总线器件测试

关键词: 测试平台  多总线器件  自动化测试设备  多时钟域  soc测试系统  

多总线作为不使用片上高速缓存的情况下在最大化系统生产能力、成本效率较高的机制下已经有很长的应用时间.测试早期的器件,工程师可以使用某些能够提供双时域能力的自动化测试设备(ATE)应对相对简单的总线结构.

细线条自动光学检查所面临的挑战及解决方法

关键词: 自动光学检查  印刷电路板  细线条检查  成品率  缺陷检查  

制作高密度互连衬底依靠细线条印刷电路板技术,这种技术带来了非常严格的类似线间距变窄到50～15μm时的成品率问题.几何图形、形状、材料和表面抛光有关的细线条面板对光学检查提出了新的挑战,需要新的方法来保证可靠的检查.这种挑战是由生产因素产生的,例如导体线条的高宽比、在半添加加工中电镀线条的拱形顶部、有光泽或半透明的薄片和嵌入式...

化学机械抛光后板刷擦洗清洗

关键词: 化学机械抛光  板刷擦洗  晶圆表面  

板刷擦洗是一种在化学机械抛光后清洗中常用的方法。它可以非常有效地把研磨剂颗粒从已抛光的晶圆表面去除掉。在氧化硅化学机械抛光的清洗工艺中，去离子水(或者稀释的氢氧化氨)是刷洗过程中常用的化学品起到的作用及刷洗的机械力对去除氧化硅研磨剂颗粒时所起的作用。

当前IC制造的几种新工艺

关键词: 芯片  ic制造  新工艺  

质量管理体系的三维空间结构模型与应用

关键词: 工程质量管理体系  三维空间结构  模型  

运用系统工程方法、ISO9000簇标准和TQM的基本原理,建立了工程质量管理体系的三维空间结构模型.以产品实现过程维中的"生产与售后服务运作"为例,分析了产品实现过程、过程计划和产品质量改进三维之间的网络关系.并以实例阐述了该模型在工程管理中的应用.

气氛烧端炉

关键词: 气氛烧端炉  文丘里式排气管  喷射器  水冷  控制系统  

介绍了气氛烧端炉的设计思路、结构特点、主要技术参数及应用范围.

半导体设备市场的新挑战与新机遇

关键词: 半导体产业  半导体设备行业现状  微细加工技术  集成电路  投资  

通过对国内半导体产业发展形势和国内半导体专用设备行业现状的分析,阐述了建立一支掌握着先进技术,又能提供优质服务、反应快速的技术支持队伍的重要性.

硅片清洗设备的日常维护

关键词: 硅片清洗设备  维护  清洗工艺  半导体  硅片表面金属沾污  

对硅片清洗设备的日常维护从清洗工艺的角度进行了分析,并对具体问题的处理方案进行了阐述,从而使清洗设备工作更加稳定.