关键词：物理气相沉积 沉积系统 产品名称 掩膜 金属 

摘要：研制单位： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 产品介绍： exiTin H430 TiN金属硬掩膜物理气相沉积系统可满足集成电路300mm（12英寸）生产线28nm物理气相沉积需求。该设备有成膜均匀性好、应力低、操作简单、占地面积小、运行成本低及产能高等特点，

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