先进电介质杂志 SCIE

先进电介质杂志（Journal Of Advanced Dielectrics）在中科院分区中位于3区，JCR分区位于Q3。审稿速度一般为 18 Weeks ，且近两年没有被列入国际预警名单，您可以放心投稿。如果您需要投稿指导，可在线咨询我们的客服老师，我们将竭诚为您服务。

《先进电介质杂志》（JAD）自2011年创刊，是由西安交通大学国际电介质研究中心和世界科技出版集团（WSPC）共同主办的英文学术期刊。JAD专注于电介质研究，涵盖了包括基础电介质研究、压电性、铁电性、薄膜/厚膜、多铁性材料以及工程电介质等广泛的研究领域。该杂志旨在推动解决高端电子元件发展中的技术难题和关键薄弱环节，为中国研究者在国际舞台上发表他们的发现提供了一个平台，并促进了对电介质理论和应用研究的持续深入。

此外，JAD致力于在全球科学界内培养创新和合作。它为科学家、工程师和学者提供了一个全面的论坛，分享他们的最新发现、创新材料和尖端设备设计。该杂志的跨学科方法鼓励从物理、化学、材料科学和电气工程等领域整合知识，以解决电介质科学和技术中的复杂问题。